上海微电子十年研发经费只有6亿,人少钱少,光刻机进展缓慢,华为海思和中芯为什么不入股与其合研光刻机?

上海微电子十年研发经费只有6亿,人少钱少,光刻机进展缓慢,华为海思和中芯为什么不入股与其合研光刻机?

上海微电子只是设备集成商,而且集成水平也很低。90nm级的ArF DUV干式光刻机基本就是照着ASML的原型机用进口零件组装出来的,没有什么商用能力,这些年主要靠生产一些后道封装用的低端机台续命。

国家02专项光刻机项目有多个部门参与,分别负责不同的子项。其中清华大学和北京华卓精科负责双工件台系统,进度比较快,是世界第二个掌握该项技术的。(第一个为ASML的Twinscan技术)

浙江大学流体动力与机电系统国家重点实验室和浙江启尔机电负责沉浸式光刻机的浸液系统,目前进度还可以,算是全世界第三家。(第一ASML,第二为Nikon)

准分子激光光源是中科院光电研究院的项目,由北京科益虹源负责产业转化。据之前报道国产40w 4khz ArF光源已经交付,之后的进度不太了解。(顺便一提,光刻机的准分子激光光源此前只有两家公司提供,分别为美国Cymer公司和日本Gigaphoton公司,前者已经被ASML全资收购。)

光刻机的光学部分由中科院长春光机所和上海光机所负责,其中长春负责物镜系统,上海负责照明系统。产业化原来是长春国科精密公司推进,后来因股东进行战略重组,由北京国望光学对其进行全资收购。此前NA 0.75光刻机曝光光学系统已经通过02专项验收,满足90nm级ArF干式光刻机的需要,正在向NA 1.35级进军。(ASML的光学系统来自德国卡尔 蔡司公司的半导体部门,ASML占有该部门24.9%股份。)

中芯国际常年不怎么赚钱而开支巨大,基层员工的待遇低到令人发指,哪有什么闲钱搞投资。负责14nm FinFET工艺的中芯南方工厂耗资100亿美元,大头都是靠国家投资的。另外,中芯国际做不了先进制程跟光刻机的关联不大,台积电可以用ArF沉浸式DUV光刻机做7nm,中芯国际才刚到14nm而已。

至于华为海思,本身属于Fabless型企业,只负责设计,对投资Foundry用的半导体设备显然没什么兴趣。这一块主要靠国家集成电路产业投资基金、地方产业基金和少量半导体专业基金在做。