中国真的研制成功10nm光刻机样机了吗？ 时间：2026-11-01 06:52:00 浏览：923次 2018年11月29日，我终于可以告诉你，我们成功的做出了我们有完整知识自主产权的22纳米光刻机，结合多重曝光技术可以做到10纳米精度 标签：10nm,光刻机,样机
